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反應離子蝕刻原理
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MEMS代工中的干蚀刻
离子 朝着被蚀刻材料的表面加速并在其上反应,从而形成另一种气态材料。 ... 上是没有反应离子的RIE。所使用的系统在原理上与溅射沉积系统非常相似。
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