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反應離子蝕刻原理
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乾蝕刻原理
乾蝕刻沒有液態的蝕刻溶液,主要分為物理濺擊或離子銑削、電漿蝕刻、與介於兩者之間 ... 最常用的蝕刻方式,其以氣體作為主要的蝕刻媒介,並藉由電漿能量來驅動反應。
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