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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司

弘塑科技Wet Bench設備最常應用之濕式化學清洗與蝕刻製程，簡述如下： ... 氫氟酸（HF）及醋酸（CH3COOH）三種成份之混合溶液來蝕刻矽，其製程原理包含二道反應步驟：

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