你即將離開本站

並前往https://cptft.mcut.edu.tw/p/405-1019-48589,c3987.php?Lang=zh-tw

反應式離子蝕刻機(Reactive Ion Etcher, RIE) - 電漿與薄膜科技 ...

儀器原理：. 在半導體製程中，蝕刻（Etch）被用來將某種材質自晶圓表面上移除。蝕刻通常是利用 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「反應離子蝕刻原理」的人也找了：

  1. RIE Etching
    2.
  2. rie原理
    3.
  3. RIE ICP
    4.
  4. ICP etching
    5.
  5. rie icp差異
    6.
  6. 反應式離子蝕刻機
    7.
  7. icp etching原理
    8.
  8. rie製程
    9.