你即將離開本站

並前往https://www.sharecourse.net/sharecourse/upload/course/181/8aea1adee73ee3db9d7af9ac624bdeac.pdf

蝕刻技術

半導製程原理與概論Lecture 8. 蝕刻技術. (Etching). 嚴大任助理教授 ... 是0.40μm/min, 氧化膜對矽的蝕刻選擇比為25比1, 如果 ... 學腐蝕反應，而正離子在蝕刻物.

確定！ 回上一頁

查詢 「反應離子蝕刻原理」的人也找了：

  1. RIE Etching
    2.
  2. rie原理
    3.
  3. RIE ICP
    4.
  4. ICP etching
    5.
  5. rie icp差異
    6.
  6. 反應式離子蝕刻機
    7.
  7. icp etching原理
    8.
  8. rie製程
    9.