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下一代EUV光刻机面世背后- 电子元件 - 半导体行业观察

根据这个等式，在晶圆曝光期间使用波长较小的光可以提高光刻工具的分辨率，从而提高其打印具有特定半间距（half pitch）或临界尺寸(critical dimension： ...

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