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TW201518871A - 用於半導體目標之量測的微分方法及裝置

可使用一柏桑圖視覺化自(例如)一FEM晶圓獲得之一焦點曝光矩陣以促進一微影處理程序窗之判定。該柏桑圖大體上繪製CD相對於用於改變曝光位準之焦點位置(諸如圖1中之實例)。如 ...

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