你即將離開本站

並前往https://archive.eettaiwan.com/www.eettaiwan.com/ART_8800297684_480102_TA_b947a49c.HTM

基於散射量測技術的臨界尺寸及輪廓測量 - 電子工程專輯.

2003年1月28日 — 當幾何尺寸低於0.1μm臨界值時，特徵輪廓測量成為控制光刻及蝕刻製程的關鍵因素，它有助於提高量產的良率。 傳統CD測量方法已接近先進半導體元件解析度 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體cd值」的人也找了：

  1. ADI AEI ASI
    2.
  2. ADI CD
    3.
  3. cd-sem是什麼
    4.
  4. Critical dimension
    5.
  5. ocd vs cd-sem
    6.
  6. 半導體layer
    7.
  7. 半導體 OD poly
    8.
  8. 半導體 Metal 層
    9.