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半導體 Metal 層
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蝕刻- 半導體
蝕刻製程是指介電質蝕刻或導體蝕刻,用以指明從晶圓上移除的薄膜材料類型。應用材料公司的蝕刻創新技術可滿足挑戰性持續提高的製程要求轉折點(例如: 3D NAND、EUV 圖案化和 ...
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