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TWI484549B - 用於清潔半導體設備的零件之濕式清潔方法

為達上述目的，本發明提供一種用於清潔半導體設備的零件之濕式清潔設備，包含一固定結構、一化學反應裝置、一清洗裝置、一乾燥裝置。化學反應裝置設置於固定結構上，用以 ...

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