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先進半導體製程量測技術提升晶片良率的幕後功臣

工研院量測技術發展中心正研究員顧逸霞，突破傳統奈米量測的方式，研發出世界領先的In-chip微影製程疊對量測專利，以32奈米製程而言，在2009年時量測精準度就可達0.57奈米 ...

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