你即將離開本站

並前往https://www.automan.tw/magazine/magazineContent.aspx?id=5550

產業脈動｜半導體製程重中之重- 微影技術的突破與創新

半導體 晶圓製造的成本架構中，微影製程占了三成以上，其中EUV曝光機 ... 除了使用EUV可以製作較微細的線寬之外，過去採用ArFi曝光機，要經過重覆曝光 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體 線寬 定義」的人也找了：

  1. 半導體線寬英文
    2.
  2. 半導體製程定義
    3.
  3. FinFET MOSFET
    4.
  4. finfet優缺點
    5.
  5. Planar FET vs FinFET
    6.
  6. FinFET vs MOSFET
    7.
  7. mosfet製程步驟
    8.
  8. finfet電晶體的結構圖
    9.