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光學微影的新限制

在積體電路(IC)生產的發展初期，光學微影一直是半導體圖案製程的主流技術。電晶體將持續朝向更小、更快、更低廉及更省 ... 光阻分佈控制 是線寬(CD)控制標準的超集合。

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