設備 編號 設備名稱 聯絡窗口 分機 設備... C05 Wet Bench (class 100)‑清洗蝕刻工作站 負責‑彭馨誼 代理‑劉信良 7714; 7699 C05... C08 8”CMP‑8英吋化學機械研磨系統 負責‑呂如梅 代理‑劉信良 7613; 7699 C08... C09 8吋後段化學清洗蝕刻工作站 負責‑劉信良 代理‑彭馨誼 7699; 7714 C09...
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