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利用半導體製程及射頻濺鍍製備128對碲化鉍-碲化銻薄膜熱電元件

薄膜 ； 熱電元件 ； 射頻 ； 半導體製程 ； Sputtering ； Lithography ... 35mm x 1mm並利用有400nm氧化層的矽基板作為基板，元件圖形運用黃光半導體製程建構128對的 ...

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