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二、矽（Si）薄膜在半導體製..-阿摩線上測驗

二、矽（Si）薄膜在半導體製程中可利用四氯甲矽烷（SiCl4）與氫氣（H2）在平面基板上以氣相沉積方式鍍膜，設S 為鍍膜表面活性位置（active site），整體反應機制如下：.

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