你即將離開本站

並前往https://concords.moneydj.com/z/glossary/glexp_4127.djhtm

三氟化氮（NF3）在半導體及TFT-LCD製造的薄膜製程中扮演 ...

在半導體中，薄膜製程的主要設備是「化學氣相沉積」（CVD）機台，會在晶圓片上長出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金屬材料，但這些材料不僅會附著在晶片 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體製程薄膜」的人也找了：

  1. 何謂薄膜製程
    2.
  2. 薄膜製程ppt
    3.
  3. 薄膜製程工程師
    4.
  4. 薄膜製程原理
    5.
  5. 薄膜製程目的
    6.
  6. 半導體薄膜設備
    7.
  7. 台積電薄膜製程
    8.
  8. 半導體製程順序
    9.