h )步驟. (photolithography)步驟. 塗敷光阻劑. 溶解度會隨曝光程度改變. 曝光. 改變光阻劑溶解度 ... 不會被蝕刻劑或蝕刻製程侵蝕. 劑. • 可用剝除劑移除 ...
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