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半導體設備系列：薄膜生長設備，國產突破可期 - 每日頭條

根據工作原理不同，薄膜沉積生長設備可分為:物理氣相沉積、化學氣相沉積和外延等類別。PVD 和CVD 是主要的薄膜設備，ALD 是產業技術發展趨勢。

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