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PEALD 半導體元件製程應用

以下分別敘述ALD 製程原理、薄膜成. 長機制、電漿輔助原子層沉積技術及ALD. 成長金屬與氮化物在半導體元件製程之應. 用。 二、ALD製程原理與反應機制. 2.1 氧化物ALD製程 ...

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