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電子氣體的領導者- 供應半導體、太陽能 - Linde Gas

爐管 反應腔體的清洗. 氟氣/ 氮氣(F2/N2). 二氧化矽或者其他矽基材料的電漿蝕刻. 氟碳化合物(CxFy). 用於電漿蝕刻矽相關材料. 六氟化硫(SF6). 浸潤式微影製程；清洗製程 ...

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