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應用田口方法改善半導體光罩之註記差— 國立成功大學

然而，半導體製程世代演進到40奈米以下，所衍生出的難題之一就是層對層之間的微影疊對（Overlay）不易控制，而微影製程中所使用到的光罩（Mask），也是影響微影疊對 ...

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