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TWI572711B - 半導體製程用的清洗組成物及清洗方法

本實施例提供一種清洗組成物，其適用於在進行如化學機械研磨等半導體製程後，對於晶圓、基板及研磨墊等元件的清洗製程中，但並不用以限制本發明之應用範圍。

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