你即將離開本站

並前往https://proj.ftis.org.tw/eta/tech/Tb021.pdf

化學機械研磨廢水相關處理技術

半導體 晶圓製造廠其積體電路製程中所伴隨產生的大量CMP. 廢水，其廢水性質隨著研磨對象、研磨液、清洗技術之不同而有所. 不同，CMP 製程廢水主要可分為研磨廢液及研磨 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體清洗製程」的人也找了：

  1. wet clean製程
    2.
  2. rca clean清洗流程和功用
    3.
  3. 物理濕式清潔法
    4.
  4. sc1 clean原理
    5.
  5. rca clean全名
    6.
  6. 晶圓清洗
    7.
  7. 半導體清洗劑
    8.
  8. SPM Clean
    9.