你即將離開本站

並前往https://patentimages.storage.googleapis.com/ad/97/bf/7df8a03e522004/TW411522B.pdf

411522 - 案號

本發明係有關半導體裝置清洗設備及在化學機械拋光. (CMP)製程後之半導體裝置清洗方法。 習知地,在半導體裝置 ... 著在CMP製程與隨後之清洗製程中添加洗滌劑而改善疏水.

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體清洗製程」的人也找了：

  1. wet clean製程
    2.
  2. rca clean清洗流程和功用
    3.
  3. 物理濕式清潔法
    4.
  4. sc1 clean原理
    5.
  5. rca clean全名
    6.
  6. 晶圓清洗
    7.
  7. 半導體清洗劑
    8.
  8. SPM Clean
    9.