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半導體濕蝕刻洗淨設備 - PDF4PRO

利用化學溶液與高純度的潔淨水來蝕刻清洗與. 製備晶圓表面。在此分別介紹在半導體製程中. 常被使用的酸、鹼與一些液體。 濕蝕刻常使用的酸：. 氫氟酸(HF).

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