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鮮爲人知的半導體清洗設備 - 人人焦點

半導體清洗 主要是爲了去除晶片生產中產生的各種沾汙雜質，是晶片製造中 ... 在80-60nm製程中，清洗工藝大約100多個步驟，而到了10nm製程，增至200多 ...

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