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工學院半導體材料與製程設備學程 - 國立交通大學

1963 年，Kern [35]發表了最初的RCA 標準清洗該技術. 使用APM 和HPM 兩種清洗液，這是半導體清洗技術的重要里程埤，一直. 到現在，RCA 都還是半導體製造業大量使用的清潔 ...

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