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晶圓清洗技術 - 壹讀

半導體 IC製程主要以20世紀50年代以後發明的四項基礎工藝（離子注入、 ... 矽晶圓經過SC-1和SC-2溶液清洗後，由於雙氧水的強氧化力，在晶圓表面上會 ...

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