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半導體清洗廠
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應用於半導體製程排水之智能污染源追蹤軟體研究
半導體 製程必須消耗大量超純水及化學藥劑進行晶圓浸泡與清洗,其製程用水約佔整廠用水量80~85%,其中又以晶圓濕式清洗為最大宗;其他如空調系統、溼式洗滌塔(Scrubber) ...
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