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半導體零件清洗 - 靠北上班族

... 半導體製程污染源• 微粒–來源：機器、包圍的空氣、氣體、去離子水、化學品... 阻，清洗晶圓，達到酸鹼中和，以進行後續製程。• 清洗劑： –APM（SC-1 或HA .

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