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半導體清洗劑
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濕式化學品在半導體製程中之應用 - 材料世界網
近幾年來,許多乾式清洗的方程式. 被相繼的提出,包括日本東北大學Ohmi. 教授所提出之新式清潔流程,或是利用. 氣態的鹽酸及氫氟酸來取代濕式的製. 程;但目前都僅限於部份 ...
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