你即將離開本站

並前往https://ndltd.ncl.edu.tw/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi/login?o=dnclcdr&s=id=%22091TIT00681013%22.&searchmode=basic

臭氧水在半導體清洗製程上的應用__臺灣博碩士論文知識加值系統

在半導體製程中，清洗製程為重要的一環，對元件特性有極大的影響。以往傳統清洗製程為RCA清洗，RCA清洗方式有主要的幾個步驟，各有其功能，例如使用硫酸加雙氧水以去除 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體清洗劑」的人也找了：

  1. 半導體清洗廠商
    2.
  2. 晶圓清洗製程
    3.
  3. 半導體晶圓清洗機
    4.
  4. 半導體零件清洗
    5.
  5. 晶圓清洗代工
    6.
  6. 半導體清洗設備
    7.
  7. 濕 式 清潔法 演進
    8.
  8. 異丙醇半導體用途
    9.