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102年經濟部專利商標審查人員考試(半導體製程)半導體工程

在高密度電漿CVD(HDP CVD)氧化物製程中，為什麼用矽烷而不用TEOS 作為矽來源氣體? 題型：問答題; 難易度：尚未記錄. 6.

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