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半導體氧化製程
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〈分析〉中國晶圓代工設備蝕刻機一支獨秀 - teema
用矽作為半導體原材料的重要因素之一就是矽容易生長出二氧化矽膜層,這樣在半導體 ... 的5nm 等離子體刻蝕機經台積電(2330-TW) 驗證,將用於全球首條5nm 製程生產線。
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