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半導體工程CH5 | PDF

11. 擴散製程三種製程流程: 摻雜氧化層沉積、氧化反應、摻雜物擴散 12. 大多數半導體使用的摻雜原子(例如P、B)在二氧化矽中的擴散速率遠低於在單晶矽中的速率

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