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半導體先進製程機台應材、KLA相繼搶進| SEMI

美商應用材料日前針對10奈米和3D製程技術，力推電子顯微鏡技術的缺陷檢測分析系統，而科磊KLA-Tencor則強打2910系列的光學晶圓缺陷檢測平台，以及eDR-7100電子束晶圓缺陷 ...

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