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【分析】半导体全面分析（四）：晶圆四大工艺，落后两代四年！

... 匀胶工艺系把光刻胶涂抹在薄膜上，光刻和显影工艺系把光罩上的图形转移到光刻胶，集成电路的最小线宽取决于光刻设备的分辨率，它定义了半导体器件 ...

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