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【拓墣觀點】全球晶圓代工走向新分水嶺 - Medium

一直以來半導體產業奉摩爾定律為圭臬，努力將線寬縮小，以便在晶片上塞入更多電 ... 曝光機原理上可製作的最小線寬為48nm，加上浸潤式微影與多重曝光的搭配，眾晶圓代 ...

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