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TW201340208A - 一種半導體線路製程

該些線特徵的線寬W 1可設定成製程中所使用之微影機台的能力極限，此處將該線寬極限定義為F，如主流193奈米(nm)波長的氟化氬(ArF)雷射光源可形成的線特徵線寬W 1為65奈 ...

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