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半導體微影製程疊對控制之研究The Study of Semiconductor ...

為了延續摩爾定律，微影製程必須不斷的微縮積體電路的線寬，從曝光光源波 ... 圓定義的曝光位置，最終的目標是將光罩圖案透過曝光來精確的轉移到晶圓表面的. 光阻上。

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