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簡單的光學突破3C 科技瓶頸：浸潤式微影

半導體 元件製程技術發展到65 nm 技術節點時，現有光學微影製程註一. ( photolithography ) 的曝光技術到達了瓶頸。以水為介質的「浸潤式微影」，在微.

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