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半導體曝光機
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AMOLED與LCD都需要的核心工藝設備曝光機 - 每日頭條
該值最大是1; 先進的曝光機的NA 在0.5 ~ 0.85之間。 ... 近期,半導體界掀起了一陣小小的光刻潮,原因就是浸潤式光刻技術的開創者林本堅博士獲得 ...
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