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半導體擴散製程
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半導體化學氣相沉積膜厚之預測使用神經網路
如圖2.3 所示,加熱成長二氧化矽的氧是來自氣相的氧,而矽則. 是來自矽晶片,當薄膜成長進入矽晶片時,這個製程會消耗來自矽晶片的矽;. 以CVD 沉積而言,矽與氧都來自氣相 ...
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