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半導體擴散製程
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水平爐管個別原理
Defects,使雜質經這些晶粒界面而進行擴散的能力,將較經由晶粒內部. 的還來得快。 ... 結構會影響其本身的電性,因此退火在半導體製程上的應用,主要在恢復或改善.
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