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半導體應用性
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https://patents.google.com/patent/TWI682056B/zh
用於半導體圖案化應用之摻雜的原子層沉積膜 - Google Patents
舉例而言,在氧化矽間隔件係加以沉積的情況下,吸附在基板表面之上的含矽前驅物與氧化電漿反應以形成氧化矽。示例性的氧化劑包含氧氣、水、二氧化碳、一氧化二氮、及其組合 ...
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