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TWI734124B - 用於半導體處理腔室部件之保護塗佈之原子層沉積

另外，ALD技術相對於其他常用的塗層技術是有利的，因為它允許特定組成物或配方的原位按需材料合成而無需源材料（諸如粉末給料和燒結靶材）的漫長而艱難的製造。 利用ALD ...

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