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CTIMES- 65到45：半導體製程微細化技術再突破

當晶片結構體尺寸小於100奈米時，光學微影技術便面臨技術關鍵：矽晶製程微影技術的線寬已小於曝光的波長長度，而微影技術所能製作的線寬，是與光源的 ...

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