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半導體製程中，一般所謂的90奈米製程係指(A)線寬為0.009μm (B)線寬為0.09μm (C)膜厚為0.009μm (D)膜厚為0.09μm。（ A ）14. 有關半導體及其周邊產業的生產技術，下列 ...

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