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半導體製程設備技術 - 第 257 頁 - Google 圖書結果

... 四大製程重複製作而成(圖 5.1),其中以微影製程的目的為定義元件圖案,是IC製造流程之核心技術,為半導體製程的關鍵,佔40∼50%的晶圓製程時間,如報導中所出現的 ...

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